納米顆粒跟蹤分析儀是一種用于實(shí)時(shí)、可視化地檢測(cè)和表征液體中納米級(jí)顆粒（通常為10–2000 nm）的先進(jìn)儀器，廣泛應(yīng)用于納米材料、生物醫(yī)藥、疫苗開(kāi)發(fā)、外泌體研究、環(huán)境科學(xué)及食品工業(yè)等領(lǐng)域。其核心技術(shù)基于激光照明與高靈敏度攝像技術(shù)相結(jié)合，通過(guò)追蹤單個(gè)納米顆粒在布朗運(yùn)動(dòng)下的軌跡，計(jì)算其擴(kuò)散速度，并依據(jù)斯托克斯-愛(ài)因斯坦方程推導(dǎo)出顆粒的流體力學(xué)直徑，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)粒徑分布、濃度及顆粒運(yùn)動(dòng)行為的精確分析。

　　納米顆粒跟蹤分析儀的組成部分：

　　一、光學(xué)系統(tǒng)

　　激光光源

　　功能：提供高強(qiáng)度、單色性好的激光束（通常為藍(lán)色或綠色激光，波長(zhǎng)405-532nm），作為顆粒散射光的激發(fā)源。

　　特點(diǎn)：激光功率可調(diào)，以適應(yīng)不同濃度樣品的檢測(cè)需求；波長(zhǎng)選擇需與顆粒折射率匹配，優(yōu)化散射信號(hào)強(qiáng)度。

　　光學(xué)透鏡組

　　功能：

　　聚焦透鏡：將激光束聚焦至樣品室內(nèi)的測(cè)量區(qū)域，形成高能量密度的光斑，增強(qiáng)顆粒散射信號(hào)。

　　收集透鏡：收集顆粒散射光，并將其引導(dǎo)至檢測(cè)系統(tǒng)（如CMOS相機(jī)），確保信號(hào)高效傳輸。

　　設(shè)計(jì)要求：透鏡組需具備高數(shù)值孔徑（NA），以提升光收集效率；同時(shí)需抑制背景噪聲，提高信噪比。

　　光路調(diào)節(jié)模塊

　　功能：通過(guò)反射鏡、分光鏡等元件調(diào)整激光路徑，實(shí)現(xiàn)光束的準(zhǔn)直、偏轉(zhuǎn)或分束，以適應(yīng)不同測(cè)量模式（如單角度或多角度檢測(cè)）。

　　應(yīng)用場(chǎng)景：在多角度NTA中，光路調(diào)節(jié)模塊可同時(shí)捕獲顆粒在不同散射角下的信號(hào)，提升粒徑分析的準(zhǔn)確性。

　　二、檢測(cè)系統(tǒng)

　　高靈敏度相機(jī)（CMOS/CCD）

　　功能：實(shí)時(shí)捕獲顆粒在激光照射下產(chǎn)生的散射光斑，并記錄其運(yùn)動(dòng)軌跡。

　　技術(shù)參數(shù)：

　　幀率：需達(dá)到30幀/秒以上，以精確跟蹤顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)。

　　像素尺寸：小像素（如2-4μm）可提升空間分辨率，區(qū)分相鄰顆粒。

　　動(dòng)態(tài)范圍：高動(dòng)態(tài)范圍（HDR）相機(jī)可同時(shí)檢測(cè)強(qiáng)散射（大顆粒）和弱散射（小顆粒）信號(hào)。

　　圖像處理單元

　　功能：對(duì)相機(jī)采集的原始圖像進(jìn)行預(yù)處理，包括背景扣除、噪聲濾波、光斑識(shí)別等，以提取顆粒的清晰軌跡。

　　算法優(yōu)化：采用自適應(yīng)閾值分割、連通區(qū)域分析等算法，提升光斑檢測(cè)的準(zhǔn)確性和抗干擾能力。

　　三、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)

　　軌跡分析軟件

　　功能：

　　軌跡重建：根據(jù)顆粒在連續(xù)幀中的位置變化，重建其三維運(yùn)動(dòng)軌跡。

　　布朗運(yùn)動(dòng)分析：通過(guò)統(tǒng)計(jì)顆粒位移的均方根（MSD），計(jì)算其擴(kuò)散系數(shù)（D）。

　　輸出結(jié)果：提供粒徑分布直方圖、濃度數(shù)據(jù)（顆粒數(shù)/mL）及統(tǒng)計(jì)參數(shù)（如平均粒徑、多分散性指數(shù)PDI）。

　　硬件加速模塊

　　功能：采用GPU或FPGA加速軌跡分析算法，縮短數(shù)據(jù)處理時(shí)間（如從分鐘級(jí)降至秒級(jí)），提升實(shí)時(shí)分析能力。

　　四、樣品室與流體控制系統(tǒng)

　　樣品室

　　結(jié)構(gòu)：通常為透明石英或玻璃材質(zhì)的封閉腔體，內(nèi)設(shè)樣品池（如毛細(xì)管或微流控芯片）。

　　設(shè)計(jì)要求：

　　光學(xué)透明性：確保激光和散射光無(wú)損耗傳輸。

　　溫度控制：集成溫控模塊（如帕爾貼元件），維持樣品溫度穩(wěn)定（如25±0.1℃），避免熱脹冷縮影響測(cè)量結(jié)果。

　　抗污染設(shè)計(jì)：采用惰性材料涂層（如特氟龍），減少顆粒吸附或化學(xué)污染。

　　流體注入與循環(huán)系統(tǒng)

　　功能：

　　樣品注入：通過(guò)注射器泵或壓力驅(qū)動(dòng)裝置，將樣品精確注入樣品室，控制注入速度（如0.1-100μL/min）。

　　循環(huán)流動(dòng)：在連續(xù)流動(dòng)模式下，樣品在樣品室內(nèi)循環(huán)流動(dòng)，避免顆粒沉降或聚集，提升測(cè)量重復(fù)性。

　　清洗模塊：測(cè)量完成后，自動(dòng)注入清洗液（如超純水或有機(jī)溶劑），清洗樣品室，防止交叉污染。

　　五、輔助模塊

　　校準(zhǔn)模塊

　　功能：使用標(biāo)準(zhǔn)顆粒（如聚苯乙烯乳膠球，粒徑已知）對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)，驗(yàn)證粒徑測(cè)量精度和濃度線性范圍。

　　校準(zhǔn)參數(shù)：包括粒徑準(zhǔn)確性（誤差≤5%）、重復(fù)性（RSD≤10%）及檢測(cè)限（通常低至10nm）。

　　環(huán)境控制模塊

　　功能：監(jiān)測(cè)并控制實(shí)驗(yàn)室環(huán)境參數(shù)（如溫度、濕度、振動(dòng)），避免外界干擾影響測(cè)量結(jié)果。

　　典型配置：隔振臺(tái)、空調(diào)系統(tǒng)及溫濕度傳感器。

　　用戶界面與操作軟件

　　功能：提供圖形化操作界面，支持參數(shù)設(shè)置（如激光功率、相機(jī)曝光時(shí)間）、數(shù)據(jù)保存與導(dǎo)出（如CSV或Excel格式），并生成測(cè)量報(bào)告。

　　擴(kuò)展功能：支持遠(yuǎn)程控制、多用戶權(quán)限管理及數(shù)據(jù)云端存儲(chǔ)。